[发明专利]光波导微流体芯片的制造方法有效
| 申请号： | 202010052131.X | 申请日： | 2020-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN111229335B | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 陈昌;刘博;豆传国 | 申请（专利权）人： | 上海新微技术研发中心有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00 |
| 代理公司： | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人： | 黄少波 |
| 地址： | 201800 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光波导微流体芯片的制造方法，包括提供衬底，在衬底上形成牺牲层，在牺牲层上形成下包层；在下包层上形成波导层，波导层是氮化硅材料；以波导层形成光波导；在波导层上形成上包层；形成微流道，微流道由上而下贯穿上包层和波导层延伸进下包层；去除牺牲层，以将上包层、波导层和下包层与衬底剥离。具有有益效果：在柔性基底上沉积光学性能可调的氮化硅薄膜，扩展以氮化硅为光学器件材料应用的范围和形式，生产芯片级光学检测系统，把传统的台式甚至大型的光学系统缩小到芯片尺寸，保证同等甚至更出色的分析性能，实现微纳尺度下的生物样品的高通量芯片级光学检测和分析集成系统，大幅度降低系统成本。 | ||
| 搜索关键词： | 波导 流体 芯片 制造 方法 | ||
【主权项】：
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