[发明专利]一种晶圆校准装置和方法及一种晶圆边缘刻蚀设备和方法在审
申请号: | 202010036405.6 | 申请日: | 2020-01-14 |
公开(公告)号: | CN111211078A | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 邵克坚;陈晋;刘昭;张文杰 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/67;H01J37/32 |
代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 陈敏 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种晶圆校准装置和方法及一种晶圆边缘刻蚀设备和方法,晶圆校准装置用于将晶圆按设定同轴度公差同轴放置于一圆柱形承载台顶部,承载台的直径小于晶圆直径,装置包括:校准环和驱动装置,校准环的内圈上部设置有一小端朝下且与承载台同轴设置的圆锥孔,圆锥孔的小端有一与圆锥孔同轴设置的圆柱孔,圆柱孔的直径等于晶圆直径与设定同轴度公差之和;圆柱孔的下部设置有一晶圆承托面,晶圆承托面中部开设有一允许承载台通过且不允许晶圆通过的通道;校准环可上下直线移动套装在承载台的外部,且圆柱孔与承载台同轴设置。本发明晶圆校准装置和方法及晶圆边缘刻蚀设备和方法能够通过圆柱孔的尺寸来保证晶圆与承载台之间的同轴度要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 校准 装置 方法 边缘 刻蚀 设备 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造