[发明专利]磁性存储器结构在审

专利信息
申请号: 202010009376.4 申请日: 2020-01-06
公开(公告)号: CN112242484A 公开(公告)日: 2021-01-19
发明(设计)人: 罗哈曼;王艺蓉;魏拯华 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;G11C11/16
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 祁建国
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 提供具有自旋轨道转矩及电压控制磁异向性辅助型多位元SOT记忆胞结构。根据本发明实施例的磁存储单元包括重金属层和包括自由层、阻障层及固定层的磁穿隧接面元件。重金属层位于自由磁性层的下方,铜接垫位于磁穿隧接面元件的外部并沿重金属层放置。阻障层、自由层及重金属层向外延伸,大于固定层的椭圆形顶部电极层。本实施例的磁性存储器结构扩大了习知装置上的处理窗口,并且缝合到重金属层上的铜接垫用于降低单元写入电压。平面充电电流通过铜接垫施加到重金属层,正电流将SOT及VCMA磁性记忆单元驱动到高电阻状态,即从平行状态至反平行状态,而负电流的驱动而进入低电阻状态,即从反平行状态至平行状态。
搜索关键词: 磁性 存储器 结构
【主权项】:
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