[发明专利]磁性存储器结构在审
申请号: | 202010009376.4 | 申请日: | 2020-01-06 |
公开(公告)号: | CN112242484A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 罗哈曼;王艺蓉;魏拯华 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;G11C11/16 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 祁建国 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供具有自旋轨道转矩及电压控制磁异向性辅助型多位元SOT记忆胞结构。根据本发明实施例的磁存储单元包括重金属层和包括自由层、阻障层及固定层的磁穿隧接面元件。重金属层位于自由磁性层的下方,铜接垫位于磁穿隧接面元件的外部并沿重金属层放置。阻障层、自由层及重金属层向外延伸,大于固定层的椭圆形顶部电极层。本实施例的磁性存储器结构扩大了习知装置上的处理窗口,并且缝合到重金属层上的铜接垫用于降低单元写入电压。平面充电电流通过铜接垫施加到重金属层,正电流将SOT及VCMA磁性记忆单元驱动到高电阻状态,即从平行状态至反平行状态,而负电流的驱动而进入低电阻状态,即从反平行状态至平行状态。 | ||
搜索关键词: | 磁性 存储器 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010009376.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于从鱼除去外寄生虫的处理
- 下一篇:包含复合透明质酸的皮肤外用剂组合物