[发明专利]沉积装置有效
| 申请号： | 201980096601.8 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN113853446B | 公开（公告）日： | 2023-08-25 |
| 发明（设计）人： | 李相硅;崔虔熏;文炳竣;曹永秀 | 申请（专利权）人： | LG电子株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 褚瑶杨;张培源 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的沉积装置包括将沉积原料蒸发成沉积材料的坩埚、以及被构造成加热所述坩埚的加热器单元，所述坩埚包括上表面开口并将沉积原料蒸发成沉积材料的坩埚主体、在所述坩埚主体的上部向外延伸的坩埚法兰、连接至所述坩埚法兰的上侧并设置有用于排出所述沉积材料的至少一个或多个的喷嘴的坩埚盖，所述加热器单元包括与所述坩埚主体的外侧间隔开的加热器框架、以及安装在所述加热器框架的内壁上并与所述坩埚主体间隔开的加热器，并且所述坩埚法兰支撑在所述加热器框架的上端。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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