[发明专利]用于硅氮化物化学机械抛光的组合物及方法在审
| 申请号： | 201980090609.3 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN113366071A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | F.孔罗;S.克拉夫特;R.A.伊瓦诺夫 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;B24B37/005;B24B37/04;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于对含硅氮化物的基板进行抛光的化学机械抛光组合物。该组合物包括：水性载剂；阳离子型硅石颗粒，其分散于该水性载剂中，该阳离子型硅石研磨剂颗粒在该抛光组合物中具有至少10mV的ζ电位；抛光添加剂，其选自：多醚胺、多硅胺、聚乙烯咪唑及其组合，其中该多醚胺及该多硅胺具有约1,000g/mol或更小的相应重均分子量。该组合物具有大于约6的pH。此外，提供用于对含硅氮化物的基板进行抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 氮化物 化学 机械抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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