[发明专利]膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201980086354.3 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN113227214A | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 柴山亘;仓本悠太郎;武田谕;志垣修平;石桥谦;中岛诚 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/22 | 分类号： | C08G77/22;C09D183/06;C09D183/08;C07F7/08;C07F7/10;G03F7/11;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李渊茹;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明的课题是提供适合作为能够形成兼具良好的EUV抗蚀剂密合性、和由于氟系蚀刻速率也高因此具有的良好的蚀刻加工性的含有Si的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物的膜形成用组合物。解决手段是一种膜形成用组合物，其包含例如式(E1)所示的聚合物、和溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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