[发明专利]用于反射VUV辐射的光学元件和光学布置在审
| 申请号： | 201980081093.6 | 申请日： | 2019-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN113167942A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | A.帕齐迪斯;M.克伦兹;H.特劳布;M.哈特林 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于反射VUV波长范围内的辐射的光学元件(4)，包括：基板(41)；和反射涂层(42)，该反射涂层被施加到该基板(41)并且具有至少一个铝层(43)。将用于分解分子氢(Ha)的至少一个氢催化层(45)施加到铝层(43)上。本发明还涉及一种用于VUV波长范围的光学布置，包括：内部，在内部布置有至少一个光学元件；以及至少一个进气口，用于向内部供应气体。在本发明的一方面，如上所述地设计光学元件(4)，并且进气口用于向内部供应氢气。在本发明的另一方面，光学布置包括等离子体产生装置，该等离子体产生装置用于通过进气口将等离子体气体供应到内部，以在光学元件的光学表面的至少部分上产生大气压等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 vuv 辐射 光学 元件 布置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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