[发明专利]用于使用相位控制来调整等离子体分布的设备及方法在审
| 申请号： | 201980071231.2 | 申请日： | 2019-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN112955997A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 李晓璞;K·贝拉;爱德华四世·P·哈蒙德;白宗薰;A·K·班塞尔;马骏;小林悟 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本文中所述的实施例涉及用于工艺腔室中的射频(RF)相位控制的装置及技术。工艺容积通过面板电极及支撑底座界定在工艺腔室中。接地筒与工艺容积相对地围绕支撑底座设置在工艺腔室内。接地筒实质填充支撑底座下方除工艺容积以外的容积。相位调谐器电路耦接到设置在支撑底座中的RF网格、及面板电极。调谐器电路调整面板电极的相位与RF网格的相位之间的相位差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 使用 相位 控制 调整 等离子体 分布 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司，未经应用材料公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201980071231.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：量化训练的长短期记忆神经网络
- 下一篇：压滤机的滤布清洗方法
