[发明专利]形成包括褶皱的MEMS振膜的方法在审
| 申请号： | 201980065031.6 | 申请日： | 2019-10-04 |
| 公开（公告）号： | CN112789239A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 桑·博克·李;V·纳德瑞恩;余兵;M·昆特兹曼;马云飞;M·佩德森 | 申请（专利权）人： | 美商楼氏电子有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 张志华;王小东 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种形成声学换能器的方法包括提供基板以及在基板上沉积第一结构层。选择性地蚀刻第一结构层，以在第一结构层上形成封闭沟槽或封闭柱中的至少一者。在第一结构层上沉积第二结构层，并且第二结构层包括分别与封闭沟槽或柱对应的凹陷或凸块。将至少第二结构层加热至高于第二结构层的玻璃化转变温度的温度，从而致使第二结构层回流。在第二结构层上沉积振膜层，使得振膜层包括与凹陷对应的面向下的褶皱或与凸块对应的面向上的褶皱中的至少一者。释放振膜层，由此形成悬在基板上方的振膜。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 包括 褶皱 mems 方法 | ||
【主权项】：
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