[发明专利]成膜装置和成膜方法在审
| 申请号： | 201980027716.1 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN112020573A | 公开（公告）日： | 2020-12-01 |
| 发明（设计）人： | 品田正人;户岛宏至;爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;H01L21/68 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 成膜装置具有：在处理腔室内的处理空间保持用于发射溅射粒子的靶的靶保持部、从靶发射溅射粒子的溅射粒子发射单元、具有供溅射粒子穿过的穿过孔的溅射粒子遮蔽板、设为能够遮蔽穿过孔的遮蔽构件、使遮蔽构件沿水平方向移动的移动机构、以及控制部。控制部一边将在遮蔽构件的载置部载置有基板的遮蔽构件控制为沿水平方向的一个方向移动，一边从靶发射溅射粒子。穿过了穿过孔的溅射粒子沉积在基板。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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