[发明专利]储能器件的底涂层形成用组合物在审
申请号: | 201980021006.8 | 申请日: | 2019-03-19 |
公开(公告)号: | CN111886718A | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 畑中辰也;境田康志;松原功达 | 申请(专利权)人: | 日产化学株式会社 |
主分类号: | H01M4/04 | 分类号: | H01M4/04;C09D5/00;C09D5/24;C09D7/20;C09D7/61;C09D7/65;C09D201/00;H01B1/24;H01G11/28;H01M4/02;H01M4/13;H01M4/66 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杜丽利 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 包含碳纳米管、碳纳米管分散剂和溶剂、碳纳米管的G/D带比为0.680~2.900的储能器件的底涂层形成用组合物可产生发挥低电阻化效果和电阻上升抑制效果的底涂层。 | ||
搜索关键词: | 器件 涂层 形成 组合 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日产化学株式会社,未经日产化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201980021006.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:信号处理设备和信号处理方法、程序及移动体
- 下一篇:导电性碳材料分散液