[发明专利]抗反射光学衬底和制造方法在审
| 申请号： | 201980017312.4 | 申请日： | 2019-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN111819498A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | P·V·凯尔卡 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B1/118 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种设置有抗反射涂层的衬底(50)，其中抗反射涂层由纳米结构层(52)组成。纳米结构可以通过如下方式来形成：沉积诸如SiO |
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| 搜索关键词： | 反射 光学 衬底 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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