[发明专利]用于压印的光掩膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201980015600.6 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN111771161B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 孙镛久;李承宪;裵南锡 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 梁笑;吴娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模包括：透明基底；设置在透明基底上的光阻挡图案；和设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 压印 光掩膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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