[发明专利]用于压印的光掩膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201980015600.6 申请日: 2019-04-02
公开(公告)号: CN111771161B 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 孙镛久;李承宪;裵南锡 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20;G03F7/32;G03F7/16
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 梁笑;吴娟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 压印 光掩膜 及其 制造 方法
【说明书】:

根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模包括:透明基底;设置在透明基底上的光阻挡图案;和设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。

技术领域

本申请要求于2018年5月30日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0061683号的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。

本申请涉及压印光掩模及其制造方法。

背景技术

电泳可变透射率膜是这样的功能膜:当带正电或带负电的颗粒根据带电相反的两个电极基板之间形成的电场的方向和强度而集中或分散在特定形成的电极上时对光透射率进行调节。电泳可变透射率膜易于透射和阻挡从外部进入的光,并因此可以用作建筑用的智能窗、车辆用的天窗和透明显示器用的光阻挡膜。

为了使具有带电颗粒的溶液均匀地分布在两个电极基板之间,必须保持两个电极基板之间的单元间隙。为此,需要在两个电极基板中的至少一者上设置分隔壁图案。

随着为了实现分隔壁图案而增加分隔壁图案的高度和高宽比,仅通过使用一般的光刻工艺难以实现所需的图案形状。

因此,在该技术领域中需要对能够增加分隔壁图案的高度和高宽比的制造方法进行技术开发。

发明内容

技术问题

本申请致力于提供压印光掩模及其制造方法。

技术方案

本申请的一个示例性实施方案提供了压印光掩模,其包括:

透明基底;

设置在透明基底上的光阻挡图案;和

设置在光阻挡图案上的干膜抗蚀剂(DFR)图案。

另外,本申请的另一个示例性实施方案提供了制造压印光掩模的方法,所述方法包括:

在透明基底上形成光阻挡层;

在光阻挡层上形成干膜抗蚀剂图案;

以及通过使用干膜抗蚀剂图案作为掩模对光阻挡层进行蚀刻形成光阻挡图案。

另外,本申请的又一个示例性实施方案提供了制造分隔壁图案的方法,所述方法包括:

在基底上形成可UV固化树脂层;

以及通过使用压印光掩模并对可UV固化树脂层进行压印光学过程形成分隔壁图案。

有益效果

根据本申请的示例性实施方案,可以提供其中光阻挡图案和干膜抗蚀剂图案的厚度与相邻光阻挡图案之间的距离的比率为1或更大的压印光掩模。

另外,根据本申请的示例性实施方案,光阻挡图案设置在透明基底与干膜抗蚀剂图案之间,结果,可以防止作为相关技术中问题的光阻挡层中形成有针孔和对模具图案的损坏。

另外,根据本申请的示例性实施方案,通过使用压印光掩模来制造分隔壁图案,结果,可以制造满足10μm或更大的厚度以及1或更大的高宽比的分隔壁图案。

附图说明

图1和图2是示意性地示出根据本申请的一个示例性实施方案的压印光掩模的图。

图3是示意性地示出根据本申请的一个示例性实施方案的制造压印光掩模的方法的图。

图4是示意性地示出根据本申请的示例性实施方案的制造分隔壁图案的方法的图。

图5是示出根据本申请的一个示例性实施方案的实验例1的使干膜抗蚀剂显影的过程之后的图像的图。

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