[实用新型]一种多晶硅还原炉及其进气喷嘴有效
| 申请号： | 201922488525.5 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN211366979U | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 余涛;周维维;杨鹏程;代晓涛 | 申请（专利权）人： | 四川永祥多晶硅有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 张雪娇 |
| 地址： | 614800 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种多晶硅还原炉及其进气喷嘴，具有直筒型喷腔，还具有螺旋型喷腔，一部分气体通过直筒型喷腔沿着直线轨迹喷入到炉筒内，一部分气体通过螺旋型喷腔沿着螺旋轨迹喷入到炉筒内。从直筒型喷腔中喷出的气体直线进入到炉筒的上部。从螺旋型喷腔中喷出的气体会螺旋上升，气体既有轴向的位移，也有径向的位移，即从螺旋喷腔喷出的气体会边向上移动边向径向上扩散，从而避免了炉筒下部气体浓度较低，确保了硅棒下部稳定地生长。另外，本实用新型将进气喷嘴的材质优选为氮化硅，氮化硅材质的进气喷嘴具有优良的耐磨性，因此不会被气体冲刷变形，从而规避了部分气体偏流而影响硅棒的生长。本实用新型还公开了一种多晶硅还原炉。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 还原 及其 喷嘴 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川永祥多晶硅有限公司，未经四川永祥多晶硅有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201922488525.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种具有自动上料功能的板管钻孔结构
- 下一篇：一种箱体加工装置
