[实用新型]集成电路器件刻除装置有效
申请号: | 201922434986.4 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN211088220U | 公开(公告)日: | 2020-07-24 |
发明(设计)人: | 陈国军 | 申请(专利权)人: | 上海翔芯集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海合进知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31324 | 代理人: | 王寿刚 |
地址: | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了集成电路器件刻除装置,包括底座板、下模仁、导柱、上连接板、上模板和刻除装置,下模仁通过连接架固定连接在底座板的顶面,多个导柱连接在底座板的顶面,上连接板贯穿导柱并和导柱滑动连接,上连接板的底面连接有上模板,上模板和上连接板之间连接有多个弹簧座;上模板上设有多个贯穿上模板的连接通孔,刻除装置和上模板的连接通孔可拆卸连接;工件连接在下模仁内,上模板下降带动刻除装置对工件刻除;本实用新型设计的刻除装置,能够将其安装在需要的位置,使用时,通过下压上连接板带动刻除装置下降,能够完成对集成电路上器件的刻除,提高了刻除的安全性可准确性,保证了刻除的效果。 | ||
搜索关键词: | 集成电路 器件 装置 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造