[实用新型]一种螺纹滚轮和一种刻蚀装置

摘要

本实用新型公开一种螺纹滚轮和一种刻蚀装置，其中螺纹滚轮包括：滚轮本体；外螺纹，其设于所述滚轮本体的外周面上，所述外螺纹的螺纹深度为大于等于3毫米且小于等于4毫米。此结构的一种螺纹滚轮，由于硅片在刻蚀槽内反应过程中会产生气泡，气泡会影响硅片的背抛效果，通过设置螺纹滚轮的螺纹深度为大于等于3毫米且小于等于4毫米，即螺纹深度较深，可将气泡切割成较小的气泡而储存在外螺纹的凹陷部内，随着硅片脱离螺纹滚轮后气泡会被释放出来，避免了外螺纹的凹陷部无法储存全部的气泡而造成多余的气泡在硅片上炸开以导致过度刻蚀以及硅片的水膜被震落使得减重下降、自补给量大的情况出现，从而获得较佳的背抛效果。