[实用新型]一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机有效
| 申请号： | 201922014145.8 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN210879179U | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 黄安基 | 申请（专利权）人： | 福建省南安市宏炜新材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11;B24B37/27;B24B37/34;B24B55/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光槽中部设有动力圆盘，动力圆盘为圆柱形结构，动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；抛光槽内设有复数个研磨盘，研磨盘为圆盘形结构，研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，研磨盘直径方向一端与第一齿槽啮合，研磨盘直径方向另一端与第二齿槽啮合；本实用新型其研磨抛光度高，能同时在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 陶瓷 多方 研磨 抛光机 | ||
【主权项】：
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