[实用新型]一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机

权利要求书

1.一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，所述底座为方体结构，其特征是：所述底座上设有抛光槽，所述抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，所述抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，所述抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；所述抛光槽中部设有动力圆盘，所述动力圆盘为圆柱形结构，所述动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；所述抛光槽内设有复数个研磨盘，所述研磨盘为圆盘形结构，所述研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，所述研磨盘直径方向一端与所述第一齿槽啮合，所述研磨盘直径方向另一端与所述第二齿槽啮合；所述研磨盘内贯穿设有复数个圆形结构的物料固定槽，所述物料固定槽内设有环形结构的固定垫；所述抛光槽上方设有下压抛光盘，所述下压抛光盘下端面均匀设有第二研磨纹路，所述下压抛光盘上端面设有研磨冷却液注入孔，所述下压抛光盘上方固定设有用于存放研磨冷却液的箱体，所述箱体通过设置管道将研磨冷却液导入研磨冷却液注入孔，所述研磨冷却液通过第二研磨纹路进入到抛光槽内部；所述底座上端面边缘设有油缸机构，所述油缸机构通过设置水平方向的连接件连接所述下压抛光盘，所述下压抛光盘沿所述油缸机构竖直方向下压。

2.根据权利要求1所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述第一研磨纹路和所述第二研磨纹路均为菱形纹路槽。

3.根据权利要求1或2所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述固定垫内侧侧面环绕连续性设有第四齿槽。

4.根据权利要求1或2所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上端面设有用于固定所述管道的固定基座。

5.根据权利要求3所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上端面设有用于固定所述管道的固定基座。

6.根据权利要求1或2或5所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述固定垫为橡胶材质。

7.根据权利要求1或2或5所述的一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其特征是：所述下压抛光盘上设有用于驱动所述动力圆盘的电机机构。