[实用新型]一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机

说明书

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光槽中部设有动力圆盘，动力圆盘为圆柱形结构，动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；抛光槽内设有复数个研磨盘，研磨盘为圆盘形结构，研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，研磨盘直径方向一端与第一齿槽啮合，研磨盘直径方向另一端与第二齿槽啮合；本实用新型其研磨抛光度高，能同时在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

技术领域

本实用新型涉及研磨抛光机，具体涉及一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机。

背景技术

随着技术的发展，氮化硅陶瓷基片的应用范围越来越广，对陶瓷基片的表面的粗糙度要求越来越高，习用抛光机研磨度不足，无法实现高精度的抛光度，同时，习用抛光机抛光时间长。

因此，目前急需一种新型的抛光机，其研磨抛光度高，在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

实用新型内容

为了解决以上存在的技术问题，本实用新型提供一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，其研磨抛光度高，能同时在多个方向同时对陶瓷基片进行精度研磨抛光，同时，具有高速的抛光速度。

本实用新型采用如下技术方案：

一种氮化硅陶瓷基片多方向研磨抛光机，包括底座，底座为方体结构，底座上设有抛光槽，抛光槽包括抛光槽环和抛光槽底盘，抛光槽底盘上端表面设有第一研磨纹路，抛光槽环侧壁内侧环绕连续性设有竖直方向的第一齿槽；抛光槽中部设有动力圆盘，动力圆盘为圆柱形结构，动力圆盘外侧面环绕连续性设有竖直方向的第二齿槽；抛光槽内设有复数个研磨盘，研磨盘为圆盘形结构，研磨盘边缘环绕连续性设有竖直方向的第三齿槽，研磨盘直径方向一端与第一齿槽啮合，研磨盘直径方向另一端与第二齿槽啮合；研磨盘内贯穿设有复数个圆形结构的物料固定槽，物料固定槽内设有环形结构的固定垫，陶瓷基片放于固定垫内；抛光槽上方设有下压抛光盘，下压抛光盘下端面均匀设有第二研磨纹路，下压抛光盘上端面设有研磨冷却液注入孔，下压抛光盘上方固定设有用于存放研磨冷却液的箱体，箱体通过设置管道将研磨冷却液导入研磨冷却液注入孔，研磨冷却液通过第二研磨纹路进入到抛光槽内部；底座上端面边缘设有油缸机构，油缸机构通过设置水平方向的连接件连接下压抛光盘，下压抛光盘沿油缸机构竖直方向下压。

进一步，第一研磨纹路和第二研磨纹路均为菱形纹路槽，固定垫内侧侧面环绕连续性设有第四齿槽。

更进一步，下压抛光盘上端面设有用于固定管道的固定基座。

优选地，固定垫为橡胶材质，下压抛光盘上设有用于驱动动力圆盘的电机机构。

由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：本实用新型通过动力圆盘的啮合带动研磨盘，研磨盘在抛光槽和动力圆盘之间的作用下，不仅自身带有转动，而且围绕着动力圆盘转动，通过第一研磨纹路和第二研磨纹路实现高精度多方向同时研磨，不仅提高了研磨抛光的精度，而且提高了研磨抛光效率，缩短研磨抛光时间。

附图说明

图1为本实用新型主机立体图1；

图2为本实用新型主机立体图2；

图3为本实用新型主机立体图3；

图4为本实用新型研磨盘立体图1；

图5为本实用新型研磨盘立体图2。

具体实施方式

下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。