[实用新型]新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构有效

专利信息
申请号: 201921984619.5 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN212083278U 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 张雄 申请(专利权)人: 甬矽电子(宁波)股份有限公司
主分类号: G01N23/2202 分类号: G01N23/2202;G01N23/2204
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 邓世凤
地址: 315400 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型的一种新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,配合样品定位座设置,样品定位座上设置一样品载板,其特征在于:包括样品定位架,样品定位架在朝向样品定位座一面设置样品承载夹具,样品承载夹具包括样品定位架上设置的若干在垂直方向上竖立的样品调节螺丝,样品定位架上设有若干滑槽,滑槽自样品定位架内侧向外侧延伸,样品调节螺丝在滑槽滑动以适应不同大小的样品;样品调节螺丝配设一样品夹块,样品夹块固定安装在样品调节螺丝下端以夹持样品,样品调节螺丝在滑槽滑动以带动样品夹块夹持不同大小样品。本实用新型的样品定位一次完成,不用反复操作,节省定位时间。
搜索关键词: 新型 离子 研磨 系统 平面 加工 样品 水平 向上 定位 结构
【主权项】:
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