[实用新型]新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构有效

专利信息
申请号: 201921984619.5 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN212083278U 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 张雄 申请(专利权)人: 甬矽电子(宁波)股份有限公司
主分类号: G01N23/2202 分类号: G01N23/2202;G01N23/2204
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 邓世凤
地址: 315400 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 新型 离子 研磨 系统 平面 加工 样品 水平 向上 定位 结构
【权利要求书】:

1.一种新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,配合样品定位座设置,所述样品定位座上设置一样品载板,其特征在于:包括样品定位架,所述样品定位架在朝向样品定位座一面设置样品承载夹具,所述样品承载夹具包括样品定位架上设置的若干在垂直方向上竖立的样品调节螺丝,样品定位架上设有若干滑槽,所述滑槽自样品定位架内侧向外侧延伸,样品调节螺丝在滑槽滑动以适应不同大小的样品;

所述样品调节螺丝配设一样品夹块,所述样品夹块固定安装在所述样品调节螺丝下端以夹持样品,样品调节螺丝在滑槽滑动以带动样品夹块夹持不同大小样品;

所述样品承载夹具配设升降结构将样品放置在样品载板,所述样品承载夹具夹持样品在指定待研磨区域并通过升降结构将样品放置在样品定位座预设的待研磨区域。

2.如权利要求1所述的新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,其特征在于:所述样品夹块在夹持物品一侧设置齿牙防止样品滑脱。

3.如权利要求1或2所述的新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,其特征在于:所述滑槽设置4个,且各所述滑槽对称设置。

4.如权利要求1或2所述的新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,其特征在于:所述样品定位架选用配合样品定位座的样品定位罩。

5.如权利要求4所述的新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,其特征在于:所述样品定位罩的侧壁在垂直方向设置安装槽,安装槽配设样品载板夹持螺丝,所述样品载板夹持螺丝在安装槽的不同高度拧紧夹持样品载板以承接样品。

6.如权利要求5所述的新型离子研磨系统平面加工样品水平方向上的定位结构,其特征在于:所述安装槽至少设置二个,且所述载板夹持螺丝至少设置二个。

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