[实用新型]一种板式PECVD机台有效
申请号: | 201921961009.3 | 申请日: | 2019-11-13 |
公开(公告)号: | CN211394622U | 公开(公告)日: | 2020-09-01 |
发明(设计)人: | 陈金元 | 申请(专利权)人: | 理想万里晖真空装备(泰兴)有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/34 |
代理公司: | 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 | 代理人: | 刘静宇 |
地址: | 225400 江苏省泰*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种板式PECVD机台,包括:机台底座;传送带,所述传送带可拆卸的设置在机台底座的内腔顶部,所述传送带的表面沿水平方向设置有多组装料槽,每组所述装料槽的数量为五个;装料区,所述传送带的顶端一侧设置有装料区;工艺区,所述传送带的顶端中部设置有工艺区;卸料区,所述传送带的顶端另一侧设置有卸料区;进料台,所述进料台设置在机台底座的一端前部,所述进料台的内腔设置有硅片;装料机,所述装料机设置在机台底座的一端前部和进料台的另一端。该板式PECVD机台,通过装料机从进料台内取出硅片,并将硅片放在传送带上,再通过卸料机将硅片取出,通过出料机构将硅片送出,缩短了加工时长,便捷卸料,实用性强。 | ||
搜索关键词: | 一种 板式 pecvd 机台 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的