[实用新型]一种改进的半导体超声波清洗装置有效

专利信息
申请号: 201921835452.6 申请日: 2019-10-29
公开(公告)号: CN211304049U 公开(公告)日: 2020-08-21
发明(设计)人: 陈绍勇;王志华;孙豹龙 申请(专利权)人: 无锡翔华科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/02;B08B3/14
代理公司: 合肥方舟知识产权代理事务所(普通合伙) 34158 代理人: 朱荣
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种改进的半导体超声波清洗装置,包括水槽以及用于将水抽入水槽内的水泵,且水泵固定在水槽的一侧,水槽内的两个侧壁上固定有第一超声波发生器和第二超声波发生器,水槽的底部设置有用于放置待清洗产品的放置台,水泵的输入管和输出管均位于水槽内部,且水泵的输出管位于输入管的上方,水槽靠近其顶部的内壁固定有固定板;本实用新型待清洗产品放置在清洗区域内,向水槽内注入温水,电机和水泵启动,电机可以带动待清洗产品转动,由于水泵的输出管和输入管都位于水槽内,这样就使得水泵通过出水管和喷淋头的作用对待清洗产品进行边转动边清洗,清洗更加精细,同时,使得水槽内的水进行循环,节约了水资源。
搜索关键词: 一种 改进 半导体 超声波 清洗 装置
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