[实用新型]一种真空分子镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上，所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架。本实用新型结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。