[实用新型]一种真空分子镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上，所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架。本实用新型结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，具体为一种真空分子镀膜设备。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。现有的真空镀膜方式有两种：一是蒸发镀膜，蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜；二是溅射类镀膜，溅射类镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

在上述两种方法中，在镀膜的过程中都是将基片固定，这样造成基片表面四周镀膜不均匀，影响了镀膜层的效果。因此，设计一种真空分子镀膜设备是很有必要的。

实用新型内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种真空分子镀膜设备，该设备结构新颖，构思巧妙，达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空分子镀膜设备，包括底座，所述底座的顶部中心处焊接固定有定位座，所述定位座的顶部中心处通过螺栓固定有坩埚，所述坩埚的外侧包裹有电热器，所述定位座的顶部四个拐角位置处通过支撑柱固定有水平驱动组件，所述水平驱动组件的底部通过螺栓固定有置物架，所述底座的顶部四周通过螺栓固定有支架，所述支架的顶部中心处通过螺栓固定有伸缩气缸，所述伸缩气缸的伸缩端固定在真空罩顶部中心处的安装座上；

所述水平驱动组件包括框架、滑轨、往复丝杆、往复滑块、伺服电机和安装架，所述支撑柱的顶部通过螺栓固定有框架，所述框架的顶部对应两侧通过螺栓固定有滑轨，所述滑轨的内部转动连接有往复丝杆，所述滑轨的一侧固定有与往复丝杆连接的伺服电机，所述往复丝杆上啮合连接有滑动在滑轨上的往复滑块，且相邻两个往复滑块上通过螺栓固定有安装架，所述安装架的底部通过螺栓固定有置物架。

优选的，所述置物架包括架体、连接柱和定位扣，所述架体的对应两侧通过连接柱与安装架连接，所述架体的顶部四周通过螺栓固定有定位扣。

优选的，所述真空罩的一侧开设有吸气孔，所述支架的顶部一侧通过螺栓固定有抽风机，所述抽风机的抽风口通过抽风管与吸气孔连接，所述抽风管上安装有电磁阀。

优选的，所述真空罩安装在定位座的正上方，所述定位座的四周粘接固定有密封圈。

优选的，所述底座的底部通过焊接固定有设备架，所述设备架的底部四个拐角位置处通过螺栓固定有万向自锁轮。

本实用新型的有益效果为：

1、将基片固定在置物架上，通过电热器对坩埚内的靶材进行加热，使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面形成薄膜，在镀膜的过程中伺服电机工作，带动往复丝杆旋转，从而带动往复滑块在滑轨的内部做往复运动，进而带动置物架上的基片做左右往复运动，以达到对基片表面呈均匀镀膜，可以大大提高镀膜生产质量和生产效率；

2、将基片放置在架体上，并通过定位扣进行固定，不仅有效的保证了基片固定的稳定性，而且基片安装和拆卸方便，有效的提升了使用的方便性。