[实用新型]一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头有效
申请号: | 201921656271.7 | 申请日: | 2019-09-30 |
公开(公告)号: | CN211193454U | 公开(公告)日: | 2020-08-07 |
发明(设计)人: | 赵德文;刘远航;孟松林 | 申请(专利权)人: | 清华大学;华海清科股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/32 | 分类号: | B24B37/32;B24B37/013;B24B49/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头,包括环形主体,所述环形主体由环状的上部和下部组成,所述上部由金属制成,所述下部由塑料制成并且具有用作抛光液通道的凹槽,所述上部和下部通过结合层结合为一体,所述结合层含有吸波材料以防止保持环反射电磁波或产生电涡流。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 保持 承载 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;华海清科股份有限公司,未经清华大学;华海清科股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201921656271.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于分离上下模的推模机构
- 下一篇:经络拍