[实用新型]基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置和原子磁力仪有效
申请号: | 201920996904.2 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN210465663U | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 蔡波;盛东 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | G01R33/032 | 分类号: | G01R33/032;G01R33/00;B81C3/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张博 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开一种基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置,采用机械切割键合平台和加工键合模具相结合,精确确定构成Herriott腔的两柱面镜间距离以及两主轴间相对转角。通过机械加工出陶瓷模具,保证两柱面镜之间的相对位置以及在硅片上的绝对位置。误差完全由机械加工控制,避免人工胶粘或者人工调节等因素造成的不确定性带来的影响。并将阳极键合的方法应用于腔镜与硅片的固定以及玻璃气室与硅片的密封。避免因人工胶粘引起的不稳定以及误差的不可控性以及胶水与后续充入的原子可能进行的反应。实现标准化批量化制备且提高稳定性。本实用新型还提供一种采用上述基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置制成的原子气室的原子磁力仪。 | ||
搜索关键词: | 基于 键合多 反射 原子 标准 制作 装置 磁力 | ||
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