[实用新型]基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置和原子磁力仪有效

专利信息
申请号: 201920996904.2 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN210465663U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 蔡波;盛东 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032;G01R33/00;B81C3/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张博
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开一种基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置,采用机械切割键合平台和加工键合模具相结合,精确确定构成Herriott腔的两柱面镜间距离以及两主轴间相对转角。通过机械加工出陶瓷模具,保证两柱面镜之间的相对位置以及在硅片上的绝对位置。误差完全由机械加工控制,避免人工胶粘或者人工调节等因素造成的不确定性带来的影响。并将阳极键合的方法应用于腔镜与硅片的固定以及玻璃气室与硅片的密封。避免因人工胶粘引起的不稳定以及误差的不可控性以及胶水与后续充入的原子可能进行的反应。实现标准化批量化制备且提高稳定性。本实用新型还提供一种采用上述基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置制成的原子气室的原子磁力仪。
搜索关键词: 基于 键合多 反射 原子 标准 制作 装置 磁力
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学技术大学,未经中国科学技术大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920996904.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top