[实用新型]一种半导体设备蚀刻装置雾化器部件专用清洗支架有效

专利信息
申请号: 201920953913.3 申请日: 2019-06-24
公开(公告)号: CN210160126U 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 朱光宇;贺贤汉;李泓波;张正伟;王松朋;陈智慧 申请(专利权)人: 富乐德科技发展(大连)有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00
代理公司: 大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235 代理人: 盖小静
地址: 116600 辽宁省大连市保税区*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种半导体设备蚀刻装置雾化器部件专用清洗支架,属于蚀刻装置清洗治具领域。支撑板A一侧与底板A垂直连接,支撑板A另一侧设置有V型槽A,V型槽A与定位槽A相连,定位槽A两侧分别设置卡槽A;底板B上依次垂直设置支撑板B、支撑板C和支撑板D,支撑板B一侧设有V型槽B,支撑板B上还设有定位孔,支撑板C一侧设置有V型槽C,V型槽C与定位槽B相连,定位槽B两侧分别设置卡槽B,支撑板D一侧设有V型槽D,当支架A和支架B相连时,支撑板A一面与支撑板C一面贴合,定位槽A和定位槽B相通,卡槽B和对应的卡槽A通过键连接。本实用新型可以提高支撑雾化器部件的稳定性,不再需要人工支撑,操作简单方便。
搜索关键词: 一种 半导体设备 蚀刻 装置 雾化器 部件 专用 清洗 支架
【主权项】:
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