[实用新型]一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机有效
申请号: | 201920807234.5 | 申请日: | 2019-05-31 |
公开(公告)号: | CN210287484U | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 王金泉;王菊姿;王伟平;何东孝 | 申请(专利权)人: | 常州市爱华真空设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/22 | 分类号: | C23C14/22 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213001 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机,包括喷水盘、固定杆、L型连接管、连接法兰、注入口、混合箱、微型泵以及输送管,固定杆安装在真空罐内壁上侧,固定杆下端面安装有喷水盘,L型连接管安装在真空罐上端面,混合箱固定在真空镀膜机主体上端面右侧,微型泵装配在混合箱内部下侧,微型泵上端面连接有输送管,注入口设置在混合箱上端面左侧,连接法兰安装在混合箱左端面,L型连接管通过连接法兰与混合箱左端面相连接,该设计解决了原有低温真空镀膜机真空室容易受到污染的问题,本实用新型结构合理,方便真空室清洁,避免污染,镀膜质量高。 | ||
搜索关键词: | 一种 可防止 真空 受到 污染 低温 真空镀膜 | ||
【主权项】:
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