[实用新型]一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机

权利要求书

1.一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，包括真空镀膜机主体、真空罐、防污染机构、控制面板以及支撑腿，其特征在于：所述支撑腿安装在真空镀膜机主体下端面，所述控制面板安装在真空镀膜机主体前端面上侧，所述真空罐固定在真空镀膜机主体上端面左侧，所述防污染机构设置在真空镀膜机主体上侧；

所述防污染机构包括喷水盘、固定杆、L型连接管、连接法兰、注入口、混合箱、微型泵以及输送管，所述固定杆安装在真空罐内壁上侧，所述固定杆下端面安装有喷水盘，所述L型连接管安装在真空罐上端面，所述混合箱固定在真空镀膜机主体上端面右侧，所述微型泵装配在混合箱内部下侧，所述微型泵上端面连接有输送管，所述注入口设置在混合箱上端面左侧，所述连接法兰安装在混合箱左端面，所述L型连接管通过连接法兰与混合箱左端面相连接。

2.根据权利要求1所述的一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，其特征在于：所述支撑腿下端面设有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，其特征在于：所述喷水盘下端面设有多个喷水口。

4.根据权利要求1所述的一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，其特征在于：所述喷水盘为圆形状喷水盘，所述混合箱填充有清洗混合液。

5.根据权利要求1所述的一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，其特征在于：所述微型泵通过导线与外界电源相连接。

6.根据权利要求1所述的一种可防止真空室受到污染的低温真空镀膜机，其特征在于：所述固定杆设有四组，且四组固定杆规格相同。