[实用新型]孔中心坐标测量系统有效

专利信息
申请号: 201920520522.2 申请日: 2019-04-16
公开(公告)号: CN209894152U 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 杨付四;岳双成;韦永亮;陈刚;刘海波 申请(专利权)人: 广州汽车集团股份有限公司
主分类号: G01B21/04 分类号: G01B21/04;G01B21/24
代理公司: 31264 上海波拓知识产权代理有限公司 代理人: 孙燕娟
地址: 510030 广东省广州市越*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供了一种孔中心坐标测量系统,包括与工件上测量孔的中心重叠布设的探测基体、与探测基体的中心重叠布设的感测件和可识别所述感测件的中心坐标的扫描系统,所述探测基体上设有与所述测量孔的边缘对齐的基准刻度,所述基准刻度的中心为所述探测基体的中心。本实用新型通过将探测基体上基准刻度与测量孔的边缘对齐,使得探测基体的中心、感测件的中心与测量孔的中心重叠,模拟出测量孔的中心,在进一步通过扫描系统识别并获取感测件的中心坐标值即可获取测量孔的中心坐标,提高了测量效率和准确性。
搜索关键词: 测量孔 探测 感测件 基准刻度 本实用新型 边缘对齐 扫描系统 中心坐标 布设 中心坐标测量 测量效率 可识别 种孔
【主权项】:
1.一种孔中心坐标测量系统,其特征在于,包括与工件(40)上测量孔(400)的中心重叠布设的探测基体(10)、与探测基体(10)的中心重叠布设的感测件(20)和可识别所述感测件(20)的中心坐标的扫描系统(30),所述探测基体(10)上设有与所述测量孔(400)的边缘对齐的基准刻度(11),所述基准刻度(11)的中心为所述探测基体(10)的中心。/n
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