[实用新型]一种真空气相沉积设备的沉积反应室

摘要

本实用新型公开了一种真空气相沉积设备的沉积反应室，包括沉积室、机罩、驱动电机、温度检测器和滚轮，所述沉积室内部的底端固定有机罩，且机罩内部的中心位置处安装有驱动电机，所述机罩外侧的沉积室内壁上安装有环形支台，所述旋转支盘底端的中心位置处安装有转轴，所述旋转支盘上方的沉积室内侧壁上设置有圆置槽，所述沉积室顶端的内侧壁上安装有喷洒盘，喷洒盘的底部设置有等间距的电动喷头，所述电动喷头外侧的喷洒盘底端焊接有涡旋导流罩，所述沉积室一侧的外壁上安装有控制面板。本实用新型不仅实现了沉积反应室沉积过程中的集聚功能，实现了沉积反应室喷洒时的涡旋诱导功能，而且改善了沉积反应室的沉积环境。

主权项

1.一种真空气相沉积设备的沉积反应室，包括沉积室（1）、机罩（2）、驱动电机（3）、温度检测器（10）和滚轮（15），其特征在于：所述沉积室（1）内部的底端固定有机罩（2），且机罩（2）内部的中心位置处安装有驱动电机（3），所述机罩（2）外侧的沉积室（1）内壁上安装有环形支台（4），且环形支台（4）上方的沉积室（1）内部设置有旋转支盘（21），所述旋转支盘（21）底端的中心位置处安装有转轴（22），且转轴（22）的底端贯穿机罩（2）并通过联轴器与驱动电机（3）的输入端固定连接，所述转轴（22）外侧的旋转支盘（21）底部安装有三组滚轮（15），且相邻滚轮（15）之间的夹角为一百二十度，所述旋转支盘（21）顶端的边缘位置处设置有设置有三组集料机构（14），且相邻集料机构（14）之间的夹角为一百二十度，所述旋转支盘（21）上方的沉积室（1）内侧壁上设置有圆置槽（8），且圆置槽（8）的内部固定有温度检测器（10），所述沉积室（1）顶端的内侧壁上安装有喷洒盘（7），喷洒盘（7）的底部设置有等间距的电动喷头（9），所述电动喷头（9）外侧的喷洒盘（7）底端焊接有涡旋导流罩（11），且涡旋导流罩（11）的内侧壁上安装有等间距的涡旋诱导片（12），所述沉积室（1）一侧的外壁上安装有控制面板（19），且控制面板（19）内部单片机的输出端分别与驱动电机（3）以及电动喷头（9）的输出端电性连接，并且控制面板（19）内部单片机的输入端与温度检测器（10）的输出端电性连接，所述控制面板（19）两侧的沉积室（1）表面安装有报警器（18），且报警器（18）的输入端与控制面板（19）内部单片机的输出端电性连接。/n