[实用新型]一种用于原子层沉积设备的晶圆进出腔传动结构有效
| 申请号： | 201920383643.7 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN209741269U | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 郑锦;逯文冬;耿晨宇;黄省三;李若雅;黄洋 | 申请（专利权）人： | 南京原磊纳米材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/54;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11777 北京艾皮专利代理有限公司 | 代理人： | 丁艳侠<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 211800 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及原子层沉积设备领域，具体是一种用于原子层沉积设备的晶圆进出腔传动结构，包括真空腔体，所述真空腔体内部安装有导轨，真空腔体底部外侧固定有直线滑台，直线滑台的上表面以及导轨均安装有磁性材料体，磁性材料体上设置有滑块，直线滑台外侧安装有伺服电机。本实用新型利用磁力传动，避免在腔体直接受力传动，产生摩擦及机械颗粒，也减少由于机械密封导致真空泄露的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 直线滑台 原子层沉积设备 本实用新型 磁性材料体 真空腔体 导轨 传动结构 磁力传动 机械密封 伺服电机 真空泄露 上表面 体内部 真空腔 传动 滑块 晶圆 腔体 受力 摩擦 | ||
【主权项】：
1.一种用于原子层沉积设备的晶圆进出腔传动结构，包括真空腔体（1），其特征在于，所述真空腔体（1）内部安装有导轨（4），真空腔体（1）底部外侧固定有直线滑台（7），直线滑台（7）的上表面以及导轨（4）均安装有磁性材料体（5），磁性材料体（5）上设置有滑块，直线滑台（7）外侧安装有伺服电机（8）。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
