[实用新型]一种用于生产异质结太阳能电池镀膜的PECVD设备有效
| 申请号： | 201920261470.1 | 申请日： | 2019-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN209778993U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 白焱辉;李高非;王继磊;张娟;黄金;高勇;鲍少娟;崔宁;贾慧君;王嘉超 | 申请（专利权）人： | 晋能光伏技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513;C23C16/458 |
| 代理公司： | 32107 镇江京科专利商标代理有限公司 | 代理人： | 夏哲华 |
| 地址： | 030600 山西省晋中市榆*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本实用新型用于生产异质结太阳能电池镀膜的PECVD设备，在立式管状结构的管式腔体内设置载片舟，载片舟由竖直绝缘杆和若干水平载片组成，竖直绝缘杆上安装若干水平载片，相邻两片载片分别连接射频电源或零电势，构成能够对HJT电池进行非晶硅沉积的类似于管式设备的结构，产能大，效率高，占地面积小，结构简单，成本投入低，可应用于太阳能电池沉积非晶硅、氧化硅、氮化硅等需使用PECVD设备的制作，及其他试用行业。 | ||
| 搜索关键词： | 载片 非晶硅 绝缘杆 载片舟 竖直 沉积 异质结太阳能电池 立式管状结构 本实用新型 太阳能电池 管式设备 射频电源 氮化硅 管式腔 零电势 氧化硅 产能 镀膜 电池 体内 制作 应用 生产 | ||
【主权项】：
1.一种用于生产异质结太阳能电池镀膜的PECVD设备，其特征在于：包括有立式管状结构的管式腔体，管式腔体上方设置有进气口，下方设置有出气口，管式腔体内设置有载片舟，载片舟包括有竖直绝缘杆，竖直绝缘杆上间隔设置有若干水平载片，相邻两片水平载片分别连接至射频电源或零电势，能够在通电、通气条件下形成等离子化学气相沉积。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
