[发明专利]一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法在审

专利信息
申请号: 201911422407.2 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111112215A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 杜俊霖;刘正新;孟凡英;孙林 申请(专利权)人: 中威新能源(成都)有限公司
主分类号: B08B3/08 分类号: B08B3/08;B08B3/10;H01L21/67;H01L31/18
代理公司: 成都时誉知识产权代理事务所(普通合伙) 51250 代理人: 李双
地址: 610000 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法,所述方法包括如下步骤:先将碱液倒入硅片清洗装置的清洗槽中备用;然后使所述碱液经过与所述清洗槽连接的循环管路流重新流至清洗槽中;其次通过臭氧发生器产生臭氧并在碱液中均匀混合形成臭氧气泡;接着将待清洗的硅片置于清洗槽中使硅片浸没在充满臭氧气泡的碱液中进行臭氧清洗;最后上步中臭氧清洗完成的硅片放入纯水中去除残留碱液;本发明通过将臭氧以气泡的形式在碱液中,延长了羟基自由基(·OH)、氧化羟基自由基(·O2H)等基团和硅片作用在硅片表面作用时间提高硅片表面的臭氧和自由基浓度,增强对硅片表面有机沾污的清洗能力。
搜索关键词: 一种 含有 臭氧 碱性 溶液 清洗 硅片 方法
【主权项】:
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