[发明专利]一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法

权利要求书

1.一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：具体包括如下步骤：

将待清洗的硅片放入配制好的碱液中；然后在碱液中通入微小臭氧气泡进行清洗，所述的气泡的平均直径≤10mm。

2.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洗硅片的方法在硅片清洗装置中完成，所述清洗装置包括清洗槽和臭氧气泡发生装置，所述清洗槽中盛有碱液，所述臭氧气泡发生装置在碱液中形成微小气泡，所述清洗装置还包括碱液循环装置，所述清洗槽上设置有进液口和出液口，所述进液口和所述出液口分别与所述碱液循环装置连接。

3.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的碱液选用氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾和氨水中的一种或几种配制而成。

4.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法及装置，其特征在于：所述的碱液的pH≥8。

5.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的臭氧气体的总体积与所述碱液的体积比≥1:100。

6.根据权利要求1所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述的清洗槽中的碱液温度为5-95℃。

7.根据权利要求2所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述清洗槽包括外槽、内槽和槽盖，所述的内槽与所述清洗槽底部固定连接，所述内槽的竖直高度低于所述外槽的高度；所述外槽底部设置有所述出液口，所述内槽底部设置有所述进液口，所述内槽内包含有多孔均流板和多孔均流管，其中，所述多孔均流管与所述进液口连通，所述多孔均流板设置于所述多孔均流管上方且平行于所述内槽底面；

所述碱液循环装置包括循环泵和线式加热器，所述循环泵与所述出液口连通，所述线式加热器的一端与所述进液口连通，所述线式加热器的另一端与所述循环泵连通；

所述臭氧气泡发生装置包括臭氧发生器和气液混合器，所述臭氧发生器的出气端与所述气液混合器连接，所述线式加热器通过所述气液混合器与所述进液口连通。

8.根据权利要求2所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：所述臭氧气泡发生装置包括臭氧发生器和微泡发生管，所述臭氧发生器的出气端通过出气管与所述微泡发生管连通，所述微泡发生管位于所述内槽中，其中，所述微泡发生管位于所述多孔均流板上部，所述微泡发生管不低于两根且相邻的所述微泡发生管之间的间距不大于10cm；所述微泡发生管的数量≥2。

9.根据权利要求2所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于，还包括有硅片花篮，所述硅片花篮位于所述内槽内。

10.根据权利要求2所述的一种含有臭氧的碱性溶液清洗硅片的方法，其特征在于：还包括槽盖，所述槽盖覆盖在所述外槽顶部。