[发明专利]一种银镜大功率倒装芯片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911402432.4 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111129244B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 张洪安;易翰翔;李玉珠;武杰;陈慧秋 申请(专利权)人: 广东德力光电有限公司
主分类号: H01L33/32 分类号: H01L33/32;H01L33/14;H01L33/20;H01L33/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 颜希文
地址: 529000 *** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种银镜大功率倒装芯片及其制备方法。本申请银镜大功率倒装芯片中,采用点阵的N孔电流注入形式,较普通的N‑Finger注入形式,减少了因N电流注入设计而损失的发光区面积;先在外延层结构上生长ITO薄膜,进行一道光刻后,再对ITO做湿法蚀刻(充分过刻蚀),然后在此条件下直接刻蚀出N型台阶,有效的将两道工艺合并成一道光刻流程,而且刻蚀后的ITO薄膜到N‑GaN台阶的间距更均值,避免了不同光刻之间的曝光偏移。
搜索关键词: 一种 银镜 大功率 倒装 芯片 及其 制备 方法
【主权项】:
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