[发明专利]一种旋转溅射靶材及其制备方法在审
| 申请号： | 201911353892.2 | 申请日： | 2019-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN110983266A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 周其刚 | 申请（专利权）人： | 南京欧美达应用材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03;C22C1/02 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 211102 江苏省南京*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种旋转溅射靶材及其制备方法，包括如下过程：将镍铜锑三种金属熔炼铸锭，然后剥皮检测探伤，将合格铸锭先热锻再冷锻为原棒；将棒料再剥皮车光，然后穿孔、扩孔，将扩好孔的棒材通过挤型机挤压成胚管；对挤型好的胚管进行若干次拉拔操作，最后通过真空淬火，得到旋转溅射靶材。本发明提供的旋转溅射靶材及其制备方法，简化工艺流程，开发出的旋转型镍铜锑靶材具有高纯净度，晶粒度也比平面靶材更小更均匀，溅射时靶材利用率可达85%，进而减少电子元器件镀膜过程中相同产量产出下换靶的时间和次数，为电子元器件厂家大幅降低原料成本，节约换靶和保养时间，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 旋转 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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