[发明专利]电阻式随机存取存储器及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201911317831.0 申请日: 2019-12-19
公开(公告)号: CN113013327A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 韦承宏;尤建祥;陈宏生 申请(专利权)人: 华邦电子股份有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 赵平;周永君
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种电阻式随机存取存储器及其制造方法。此电阻式随机存取存储器包括形成于基板上的第一介电层,以及两个存储器单元。此两个存储器单元包括两个彼此分离的底电极结构,分别填满位于第一介电层中的两个沟槽。此两个存储器单元亦包括电阻转态层以及顶电极结构。电阻转态层顺应性地形成于位于第一介电层中的开口的表面,且此开口位于两个沟槽之间。顶电极结构位于电阻转态层上且填满开口。第一介电层的顶表面、底电极结构的顶表面、电阻转态层的顶表面与顶电极结构的顶表面实质上共平面。本发明可大幅增加存储器单元的密度,从而可有利于电阻式随机存取存储器的微小化。
搜索关键词: 电阻 随机存取存储器 及其 制造 方法
【主权项】:
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