[发明专利]一种维持反应腔良性环境的方法有效
| 申请号： | 201911296753.0 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN110970285B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 吴华龙;赵维;何晨光;张康;贺龙飞;廖乾光;刘云洲;陈志涛 | 申请（专利权）人： | 广东省半导体产业技术研究院 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 杨勋 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明提供了一种维持反应腔良性环境的方法，涉及外延生长的技术领域。维持反应腔良性环境的方法包括：将完成AlN膜外延生长的生长设备的反应腔加热到预设温度；向所述反应腔通入清洁气体，清除所述反应腔内的杂质颗粒；将所述反应腔保持在所述预设温度，并通入NH |
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| 搜索关键词： | 一种 维持 反应 良性 环境 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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