[发明专利]一种掺铕的二氧化锡基薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911268137.4 申请日: 2019-12-11
公开(公告)号: CN111129159A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 刘锋;杨建文;胡耕涛;赵炎亮;曹峻;曹铎;石卉 申请(专利权)人: 上海师范大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/24;H01L21/34;H01L21/368
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200234 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种掺铕的二氧化锡基薄膜晶体管及其制备方法,该晶体管包括自下而上依次堆叠的基板(1)、栅电极(2),SiO2栅绝缘层(3),半导体层(4)和源漏电极(5),所述的半导体层(4)包括Eu和SnO2,其中Eu和SnO2的摩尔比为(0.1‑0.5):1,通过(1)射频磁控溅射沉积;(2)离子源辅助的电子束蒸发沉积;(3)溶胶凝胶;(4)旋涂、沉积、退火处理;(5)射频磁控溅射沉积,退火处理后最终得到。与现有技术相比,本发明具有半导体层制备成本低、成分简单且不含In、Zn元素、透明、晶体管阈值电压可调控等优点。
搜索关键词: 一种 氧化 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
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