[发明专利]具有集成钳位二极管的半导体器件在审

专利信息
申请号: 201911241056.5 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN111293175A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 赖艳;马克·加日达;巴里·怀恩;菲尔·鲁特 申请(专利权)人: 安世有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 张娜;李荣胜
地址: 荷兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及一种半导体器件及其制造方法。所述半导体器件包括:与p‑n结集成的MOSFET,所述p‑n结被布置为所述MOSFET的源极接触和漏极接触之间的钳位二极管;其中,所述MOSFET限定第一击穿电压,并且所述钳位二极管限定第二击穿电压,其中,所述第一击穿电压大于所述第二击穿电压,使得所述钳位二极管被配置和布置为接收低雪崩电流,并且所述MOSFET被配置和布置为接收高雪崩电流。
搜索关键词: 具有 集成 二极管 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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