[发明专利]集成电路布局的产生方法在审
| 申请号： | 201911206815.4 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111241774A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 杨尊宇;傅仁弘;郭晋诚;管瑞丰 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本文揭示一种集成电路布局的产生方法。前述方法包括以下步骤：调整与集成电路(IC)的网表中的参数化单元相关联的第一参数，以生成与IC的网表中的参数化单元相关联的第二参数；根据第二参数更新IC的网表；以及根据网表执行模拟。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 布局 产生 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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