[发明专利]集成电路布局的产生方法

说明书

本文揭示一种集成电路布局的产生方法。前述方法包括以下步骤：调整与集成电路(IC)的网表中的参数化单元相关联的第一参数，以生成与IC的网表中的参数化单元相关联的第二参数；根据第二参数更新IC的网表；以及根据网表执行模拟。

技术领域

本发明是关于集成电路的产生方法，且特别是有关于一种集成电路布局的产生方法。

背景技术

集成电路(integrated circuit；IC)大致包括在IC布局图中表示的多个半导体元件。IC布局图由IC略图(例如，IC的电路图)生成。在IC设计过程的不同阶段处，从IC略图至用于IC的实际制造的IC布局图，执行各种检查及测试以确保IC可制造并且执行设计功能。

发明内容

本文揭示一种集成电路布局的产生方法。前述方法包括以下步骤：调整与集成电路(IC)的网表中的参数化单元相关联的第一参数，以生成与IC的网表中的参数化单元相关联的第二参数；根据第二参数更新IC的网表；以及根据网表执行模拟。

附图说明

当结合附图阅读时，根据以下详细描述可更好地理解本揭示案的态样。应注意，根据工业标准实务，各种特征未按比例绘制。事实上，为论述清楚，各特征的尺寸可任意地增加或缩小。

图1为根据一些实施例的EDA系统的方块图；

图2为根据一些实施例的EDA平台系统的操作图；

图3为根据本揭示内容的各种实施例的如图2所示的操作的详细操作图；

图4为根据本揭示内容的各种实施例的用于操作EDA系统的方法的流程图；

图5为根据本揭示内容的各种实施例的在集成电路(IC)的网表中的电路的元件的示意图；

图6为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5中图示的元件中的部分的示意图；

图7为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5及图6中图示的元件的示意图；

图8为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5及图6中图示的元件的示意图；

图9为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5及图6中图示的元件的示意图；

图10为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5中图示的结构的示意图；

图11为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的图5中图示的结构的示意图；

图12为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的结构的示意图；

图13为根据本揭示内容的各种实施例的在IC的网表中的电路的结构的示意图；

图14为根据本揭示内容的各种实施例的如图10图示的IC的网表中的电路的布局的示意图；

图15为根据本揭示内容的各种实施例的如图11图示的IC的网表中的电路的布局的示意图；以及

图16为根据本揭示内容的各种实施例的用于操作EDA平台系统的方法的流程图。

【符号说明】

100…EDA系统

102…处理器

104…非暂态计算机可读取储存媒体

106…计算机程序代码、指令

107…标准单元库

108…总线

110…接口