[发明专利]台阶单片式光谱芯片制备方法

摘要

本发明属于光谱成像技术领域，具体涉及一种台阶单片式光谱芯片制备方法。与现有技术相比较，本发明在多层堆叠分布式布拉格镜结构模拟设计和制造的基础上，采用CMOS工艺兼容的材料，以高反射率的布拉格镜为FP腔镜，在CMOS图像传感器上直接设计生长FP分光薄膜结构，形成单芯片单谱段光谱成像微系统；前期主要是目标是完成单谱段和双谱段的光谱成像芯片，在此基础上，逐渐实现多谱段台阶式的光谱成像芯片。本发明提高了台阶式光谱芯片制备的制造效率，节省了加工时间，有效的降低了工艺中掩膜和光刻的工艺次数，降低了光谱芯片的制造成本，使之更加具有竞争力。