[发明专利]一种还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂的制备及应用在审
| 申请号： | 201911112186.9 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN110773142A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 邓会会;敖善世;秦存琪;叶鹏 | 申请（专利权）人： | 嘉兴烯成新材料有限公司 |
| 主分类号： | B01J21/18 | 分类号： | B01J21/18;B01J21/06;B01J23/72;C02F1/30;C01B32/198;C01B32/194;C01B3/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉兴市平湖市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂的制备及应用，包括以羟基化石墨烯为载体制备还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂。该方法采用了一种新型的以及具有普适性的载体材料‑羟基化石墨烯，添加无毒廉价的材料为前驱体，利用简单的一步水热法制备了还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂。我们制备的还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂与传统的还原氧化石墨烯制备的复合半导体催化剂相比，催化活性得到了显著的提升。水热法产生的纳米催化剂的颗粒粒径小且能够稳定分散于还原羟基化石墨烯的表面，有较高的光催化性能。同时还原之后的羟基化石墨烯完整性好，具有很好的电子传输性能。因此，作为光生电子快速转移的载体材料，可以有效地降低半导体材料中光生电子和空穴的复合速率，进而提高光催化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯 羟基化 复合半导体 还原 催化剂 制备 光生电子 载体材料 还原氧化石墨烯 电子传输性能 半导体材料 空穴 光催化效率 光催化性能 纳米催化剂 催化活性 颗粒粒径 快速转移 水热法制 稳定分散 载体制备 传统的 普适性 前驱体 水热法 有效地 无毒 复合 应用 | ||
【主权项】：
1.一种羟基化石墨烯复合半导体催化剂的制备方法，其特征在于，具体制备步骤如下:/na、羟基化石墨烯的制备：按比例取液相剥离石墨烯粉末、氯化亚铁、去离子水和30%的双氧水进行混合。在35℃下搅拌反应，搅拌前调节混合液pH=4，搅拌结束后抽滤分离固体。用乙醇和去离子水不断冲洗，即得到羟基化石墨烯。/nb、还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂的制备：按比例称取定量的步骤a制备的羟基化石墨烯溶于一定量无水乙醇和去离子水体积比为1：2的液体形成第一混合溶液。先对第一混合液超声，接着搅拌并添加一定量的半导体催化剂的前驱体材料。搅拌2~4个小时后，得到第二混合液，待搅拌均匀后装入含有聚四氟乙烯的水热反应釜中，在120℃~180℃下水热反应3~8个小时。将所得的水热固体产物用无水乙醇、去离子水多次洗涤，真空40℃~60℃干燥处理18~24小时，最终得到还原羟基化石墨烯复合半导体催化剂材料。/n
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