[发明专利]基于掺硼硅量子点增强吸收型的光电探测器及系统有效
申请号: | 201911011625.7 | 申请日: | 2019-10-23 |
公开(公告)号: | CN110729371B | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 杨培志;申开远;杨雯;马春阳;莫镜辉 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | H01L31/09 | 分类号: | H01L31/09;H01L31/0328 |
代理公司: | 重庆萃智邦成专利代理事务所(普通合伙) 50231 | 代理人: | 舒梦来 |
地址: | 650500 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于掺硼硅量子点增强吸收型的光电探测器及系统,具体而言,涉及光电测量领域。该光电探测器包括:衬底、石墨烯层、第一掺硼硅量子点、第一电极、第二电极、第一隔离层和第二隔离层;当光线照射到该光电探测器上时,该石墨烯层、该第一掺硼硅量子点和该衬底对光线进行吸收,该光电探测器中产生很多的空穴,多个空穴在第一掺硼硅量子点中被缺陷态捕获,电荷在电场作用下被快速抽离,少数载流子被释放前,相当于电荷在回路中被多次循环,进而该光电探测器上形成了很大的电流,通过该电流与该光电探测器光的吸收率的对应关系,得到该光电探测器光的吸收率。 | ||
搜索关键词: | 基于 掺硼硅 量子 增强 吸收 光电 探测器 系统 | ||
【主权项】:
1.一种基于掺硼硅量子点增强吸收型的光电探测器,其特征在于,所述光电探测器包括:衬底、石墨烯层、第一掺硼硅量子点、第一电极、第二电极、第一隔离层和第二隔离层;/n所述衬底的一侧设置有所述石墨烯层,所述石墨烯层远离所述衬底的一侧设置有所述第一掺硼硅量子点、所述第一电极和所述第二电极,且所述第一电极和所述第二电极设置在所述石墨烯层的两端,所述第一掺硼硅量子点设置在所述石墨烯层的中间位置,所述石墨烯层靠近所述衬底的一侧,与所述第一电极和第二电极对应的位置分别设置有所述第一隔离层和所述第二隔离层。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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