[发明专利]基片处理装置在审
| 申请号： | 201910992484.5 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN111092009A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 斋藤道茂;金子彰太;山边周平 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基片处理装置。基片处理装置包括：处理容器；载置台，其配置在上述处理容器的内部，能够载置基片；配置在上述处理容器与上述载置台之间的形成阳极的部件，上述部件具有供热交换介质流动的流路。本发明能够提高热响应性。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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