[发明专利]一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法在审
| 申请号： | 201910980460.8 | 申请日： | 2019-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN112670144A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 蔡炀烁 | 申请（专利权）人： | 北京烁科中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于估算分析缝处离子束流宽度的方法。本发明用于离子质量分析相关的领域，主要为半导体设备中离子注入机领域。质量分析器的分辨能力主要取决于，离子束在分析缝处的宽度和分析缝本身宽度。离子束本身的宽度不易直接测量，而分析缝宽度可以控制，且质量分析器的分辨率主要有两个宽度中较宽的一个决定。本方法通过测量不同分析缝宽度时质量分析器的分辨率，可以得到由离子束束宽和分析缝缝宽决定的不同分辨率，进而可以估算分析缝处离子束本身的宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 估算 分析 离子束 宽度 方法 | ||
【主权项】：
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